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PUCRS - Programação de periféricos
Memória Flash Bruno Vollino Vinicius Camargo PUCRS - Programação de periféricos
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Sumário Histórico Funcionamento Características Bibliografia
Célula EEPROM Programação Apagamento Leitura NOR vs NAND Arquitetura NOR Arquitetura NAND Características Bibliografia
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Histórico Composta de células EEPROM (Eletrically-Erasable Programmable Read-Only Memory), derivadas das EPROM (Erasable Programmable Read-Only) [Frohman-Bentchkowsky 1971]. Publicado originalmente no artigo “A new flash E²PROM cell using triple polysilicon technology” publicado em 1984 por Fujio Masuoka, da Toshiba Corp., na International Electron Devices Meeting, da IEEE. F-E²PROM = Flash Electrically Erasable-PROM
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Histórico Arquitetura NOR: Passou a ser utilizada pela Intel a partir de 1988 para substituir chips ROM. Tornou-se o tipo mais importante de memória não volátil da década de 80, sendo utilizada para armazenamento de BIOS e firmwares. Arquitetura NAND: Proposta em 1989 por Fujio Masuoka. Popularizou-se a partir do final da década de 90, utilizada em pen-drives e celulares. No ano de 2000 foram vendidas mais de 800 milhões de unidades de dispositivos com uma memória flash de 16-Mb [BEZ 2003]. O grupo Open NAND Flash Interface Working Group (ONFI) desenvolve um padrão de interface para os chips NAND.
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Célula EEPROM Porta de controle Porta flutuante Camadas isolantes
Substrato semi-condutor
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Célula EEPROM Programando uma célula
Processo de Hot Carriers Injection (HCI)
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Célula EEPROM Apagando uma célula
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Célula EEPROM Leitura de uma célula
Processo de Fowler–Nordheim tunneling. Bit 1 Bit 0
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NOR vs NAND Arquitetura NOR Acesso aletório aos dados.
A relação de dados armazenados/espaço físico é menor. Possui transistores de controle para cada célula. Tempo de programação e apagamento maiores que o NAND.
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NOR vs NAND Arquitetura NOR
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NOR vs NAND Arquitetura NAND Acesso seqüencial aos dados .
A relação de dados armazenados/espaço físico é maior. Possui transistores de controle para cada array de células. Tempo de programação e apagamento menores.
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NOR vs NAND Arquitetura NAND
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Características Volatilidade [Bez 2003]
É não volátil, porém com o passar do tempo as células vão perdendo sua carga o que pode acarretar em perda de dados. São especificadas para reter os dados por cerca de dez anos. O floating gate armazena uma energia de cerca de 2 V – correspondente a um número de 103 (mil) a 104 (dez mil) elétrons. Com a perda de 20% desse número (que ocorre na proporção de de 2-20 por mês) pode haver erro na leitura.
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Características Durabilidade [Bez 2003]
As memórias flash podem realizar operações de programar/apagar por um número limitado de vezes, que é de aproximadamente 105 (cem mil) ciclos Isto ocorre devido aos elétrons que ficam aprisionados durante a travessia entre a camada isolante e o floating gate, alterando a leitura da célula.
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Características Geração [Bez 2003] Estrutura Capacidade
Ciclos de escrita Primeira Array único 256 kb – 2 Mb 104 Segunda Sectors 1Mb -16 Mb 105 Terceira 1998-Atual Banks 64 Mb Gb ??
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Bibliografia [Frohman-Bentchkowsky 1971] D. Frohman-Bentchkowsky, “Memory behavior in a floating-gate avalanche-injection MOS (FAMOS) structure,” Appl. Phys. Lett., vol. 18, pp. 332–334, [Masuoka1984] A new flash E2PROM cell using triple polysilicon technology. Masuoka, F.; Asano, M.; Iwahashi, H.; Komuro, T.; Tanaka, S. Electron Devices Meeting, 1984 International Volume 30, Issue , 1984 Page(s): 464 – 467. [Bez 2003] Bez, R.; Camerlenghi, E.; Modelli, A.; Visconti, A.; Proceedings of the IEEE, Volume 91, Issue 4, April 2003 Page(s):489 – 502. Digital Object Identifier /JPROC Introduction to Flash memory, disponível em Acesso: Flash memory, disponível em Acesso:
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