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PublicouYasmin Prudente Alterado mais de 10 anos atrás
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Química Si-F: efeito de adição de O 2
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Corrosão de Si com carbofluoretos: corrosão vs. polimerização, como função de razão F/C
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CF 4 /H 2 : seletividade de corrosão Si/SiO 2 Adição de H 2 aumenta polimerização, o que diminui a taxa de corrosão de Si (dificultando transporte dos reagentes e dos produtos de corrosão), mas quase não afeta a taxa de corrosão de SiO 2 (a presença do filme de carbofluoretos na superfície de óxido é favorável para corrosão dele, através das reações C + n O CO, CO 2 (n=1,2) SiF x + m F SiF 4
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Corrosão de Si e fotorresiste em misturas contendo Cl e F
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Loading effect (a taxa de corrosão depende da área corroída) Origem do efeito: escassez de átomos de F que estão sendo consumidos em reação com Si
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Rugosidade de corrosão
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Ruptura de estruturas finas no final de corrosão de porta de transistor MOS
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Diagnóstico de plasmas reativos (end point): espectroscopia óptica de emissão
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Diagnóstico de plasmas reativos (end point): espectroscopia óptica e reflectometria
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Diagnóstico de plasmas reativos (end point): espectrometria de massas
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Reatores de plasma: plasma remoto e barril
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Reatores de plasmas planares: plasma etching vs. reactive ion etching
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Reator planar RF : distribuição de potencial
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Reator industrial RF (RIE), configuração do hexodo
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