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Litografia par estruturas reais
2
Correção de máscaras (OPG- óptical proximity correction)
3
Phase shifting technique : melhoria em contraste
4
Sistema de projeção de varredura (1:1), com alta efficiência (throughput), usado para lâminas grandes
5
Seqüência de gravação step-and-repeat
6
Espessura de resiste em função da velocidade de spinner
7
Dispositivos para recozimento (baking) de resiste
8
Exposição: efeito do tempo
9
Interferência da luz dentro de resiste: ondas estacionárias
10
Anti-reflection coating, exemplo de uso
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Revelação: efeito do tempo
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Litografia com feixe de elétrons
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Espalhamento de elétrons em resiste e substrato, efeito de proximidade
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Efeitos de inter- e intra-proximidade
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