SÍNTESE DE FILMES FINOS PELO MÉTODO QUÍMICO DE DEPOSIÇÃO Cássio Morilla dos Santos Aluno de Doutorado – POSMAT Orientado por Dr. Paulo Noronha Lisboa-Filho
1. Introdução 1.1 Tecnologia de filmes finos Conhecida pelos Egípcios há mais de 400 anos Folhas de ouro de 3m de espessura Ornamentação e proteção contra a corrosão Década de 80 Dispositivos eletrônicos menores e mais eficientes 1945 – ENIAC 35000 Kg 2008 – Notebook 6 Kg Aplicações Proteção contra agentes externos Revestimento de ferramentas de corte Dispositivos eletrônicos Telecomunicações Células solares Atualmente Dispositivos em escala nanométrica 02
1.2 O que são filmes finos? Estrutura simples Estrutura de multicamadas Requisitos para a formação do filme Condições da superfície Análises de difusão Afinidade química Microestrutura Coeficiente de dilatação 03
1.3 Parâmetros de rede Estrutura simples Desajuste fracional aS aF f 0 04
Estrutura de multicamadas Desajuste fracional aS aF f 0 05
1.4 Técnicas de síntese de filmes finos PVD: Physical Vapor Deposition Deposição física a partir da fase de vapor Espécies químicas são arrancadas de um alvo por impacto de íons Impacto das espécies sobre o substrato Sputtering 06
CVD: Chemical Vapor Deposition Deposição química a partir da fase de vapor Espécies químicas depositadas através de reações químicas Evaporação e condensação sobre o substrato Molecular Bean Epitaxy 07
Dip-Coating Spin-Coating CSD: Chemical Solution Deposition Deposição à partir de uma solução química Imersão e retirada do substrato na solução (Dip-Coating) Gotejamento da solução e centrifugação do substrato (Spin-Coating) Dip-Coating Spin-Coating 08
2. Método Químico de Deposição 2.1 Síntese Química Rotas Sol-Gel Metodologia para a obtenção de materiais na forma bulk ou de filmes finos Origina-se de óxido, carbonatos, ... Obtenção de materiais inorgânicos SOL: solução formado por partículas sólidas em browniano GEL: sólido que tem um líquido como um componente em sua estrutura Reações de hidrólise e condensação Caso especial: Método de Pechini 09
2.2 Método de Pechini Filme de YBCO YBa2Cu3O7-x Y2O3, BaCO3, CuO Filme de LCMO La0,7Ca0,3MnO La2O3, CaCO3, MnCO3 Camada Buffer Y2O3 Relações 10
Aprisionamento dos cátions metálicos Reação de quelação Aprisionamento dos cátions metálicos 11
Reação de poliesterificação Formação de um polímero 12
Formação do gel retirada de água Bulk e filmes finos 13
2.3 Quantidades utilizadas Para 1g de YBCO m = 0,1695g de Y2O3 em 50ml H2O destilada ; T = 750C ; v = 3ml HNO3 m = 0,5924g de BaCO3 em 50ml H2O destilada ; T = 750C ; v = 3ml HNO3 m = 0,3582g de CuO em 50ml H2O destilada ; T = 750C ; v = 3ml HNO3 m = 5,1911g de AC em 50ml H2O destilada ; T = 500C v = 3,12ml de EG 14
3. Processo de Deposição 3.1 Spin-Coating Composto por 4 etapas Deposição: Estática x em rotação Spin-Up: Retirada do excesso de material depositado Spin-Off: Uniformidade do filme Balanço de forças: Centrífuga x Viscosa Evaporação: Retirada do solvente 15
Pouco material depositado Velocidade e/ou tempo insuficiente 3.2 Gráficos do spin-coating 3.3 Problemas a serem evitados Pouco material depositado Velocidade e/ou tempo insuficiente Aceleração muito alta 16
3.3 Cálculos teóricos No equilíbrio de forças Força Centrífuga = Força Viscosa 17
4. Retirada do Solvente e Formação do Gel 4.1 Remoção de Espécies Voláteis Deposição da solução Filme em Gel Cadeia polimérica Ligações M-O-C Ligações M-O-H Filme amorfo 18
5. Cristalização do Filme 5.1 Tratamentos Térmicos São comumente utilizados dois processos One-Step Process: Remoção de compostos orgânicos e cristalização na mesma etapa Two-Step Process Remoção de compostos orgânicos e cristalização em etapas distintas Tratamentos térmicos T = suficientes Eliminação de espécies voláteis CO e CO2 por combustão Formação de ligações M-O-M Filme cristalino 19
5.2 Crescimento do filme Formação de um filme contínuo Formação de agregados Crescimento e coalescências dos grãos Formação de um filme contínuo 20
6. Minha Pesquisa 6.1 Filmes de YBCO depositados sobre substratos de níquel YBCO/Y2O3/Ni MP: soluções de Y2O3 e YBCO Limpeza dos substratos de Ni (0,5x0,5cm) - Acetona aquecida (800C) em ultra-som (20min) - Enxágue em H2O destilada Deposição Y2O3 (1000-1500rpm/60s) Secagem em chapa aquecida (1000C) Tratamento térmico (T=7000C/60min) Deposição YBCO (1000-1500rpm/60s) Tratamento térmico - T = 9000C/240min - T = 5000C/30min – O2 Y2O3 YBCO 21
6.2 Filmes de YBCO depositados sobre substratos de silício YBCO/Si MP: solução de YBCO Limpeza dos substratos de Si (0,5x0,5cm) - H2SO4/H2O2 4:1 – 800C/10s - Enxágüe em H2O destilada (3min) - HF/H2O2 1:10 – 30s Deposição YBCO (1000-1500rpm/60s) Secagem em chapa aquecida (1000C) Tratamento térmico - T = 9000C/240min - T = 5000C/30min – O2 YBCO 22
6.3 Filmes de YBCO depositados sobre substratos cerâmicos YBCO/MgO - YBCO/SrTiO3 - YBCO/LaAlO3 MP: solução de YBCO Limpeza dos substratos de Ni (0,5x0,5cm) - Acetona aquecida (800C) em ultra-som (20min) - Enxágüe em H2O destilada Deposição YBCO (1000-1500rpm/60s) Secagem em chapa aquecida (1000C) Tratamento térmico - T = 9000C/240min - T = 5000C/30min – O2 YBCO 23
7. Análises 7.1 YBCO/Y2O3/Ni XRD XPS 24
Medidas de transporte 25
7.2 YBCO/Si XRD Medidas magnéticas 26
7.3 YBCO/MgO XRD Medidas magnéticas 27
7.4 YBCO/SrTiO3 XRD Medidas magnéticas 28
7.5 LCMO/Si, LCMO/SrTiO3, LCMO/LAO Medidas magnéticas SEM 29
XPS 30