Chemical Vapor Deposition (CVD)

Apresentação em tema: "Chemical Vapor Deposition (CVD)"— Transcrição da apresentação:

1 Chemical Vapor Deposition (CVD)
NANOMATERIAIS ALUNO: GELSON GOMES ALVES

2 Visão Global O que é CVD? Tipos de CVD CVD processos / aplicações
MO-CVD, PE-CVD, etc CVD processos / aplicações

3 O que é CVD? Chemical vapor deposition (CVD) é um processo químico utilizado para a produção de materiais sólidos de alta pureza e de alto desempenho. O processo é frequentemente utilizado na indústria de semicondutores para produzir filmes finos. Num processo típico de CVD, a pastilha (substrato) é exposta a um ou mais precursores de voláteis, que reagem e / ou decompõem-se na superfície do substrato para produzir o depósito pretendido.

4 Em que consiste processo de CVD?
Chemical Vapor Deposition é a formação de uma película não volátil sólida sobre um substrato por meio da reação de produtos químicos na fase de vapor (reagentes) que contêm os componentes necessários. Os gases reagentes são introduzidos numa câmara de reação e são decompostas e reage a uma superfície aquecida de modo a formar a película fina.

5 CVD - Aplicações de Processos
Processos de microfabricação amplamente utilizados CVD para depositar materiais em várias formas, incluindo: policristalino, monocristalino, amorfa, e epitaxial. Estes materiais incluem: silício, fibra de carbono, nanofibras de carbono, filamentos, nanotubos de carbono, SiO2, silício, germânio, tungsténio, carboneto de silício, nitreto de silício, oxinitreto de silício, nitreto de titânio, e vários high-k dieléctricos. O processo de CVD também é usado para produzir diamantes sintéticos.

6 Como ocorre? Na técnica de deposição física de vapor, o material é aquecido para produzir um vapor, que é então introduzido através dos poros do molde e arrefecida até solidificar. A deposição de vapor é normalmente capaz de preparar os nanofios de menor diâmetro (• 20 nm). Filamento quente de deposição de vapor químico. Utiliza o metano e o gás hidrogênio como fonte e filamentos de tungstênio. Crescimento como diamante nanocristalino de carbono amorfo e nanotubos de carbono. Pirometro Cyclop 100 é utilizado para medir tanto o filamento e a temperatura da amostra. Fase de aquecimento opcional programável permite controlar temperaturas de substrato até 800 C com termopar.

7 Chemical Vapor Deposition Apparatus
CVD Reactors Horizontal APCVD Reactor Chemical Vapor Deposition Apparatus

8 Chemical Vapor Deposition Apparatus
Forno epitaxial Chemical Vapor Deposition Apparatus

9 Reator planetário MOCVD em uma instalação industrial (cortesia Aixtron)
Fonte:

10 VANTAGEM Minimiza os impactos dos processos em alta temperatura anteriormente utilizados. DESVANTAGENS A REAÇÀO DE CVD É MUITO COMPLEXA E ENVOLVEUMA SÉRIE DE REAÇÒES.

11 Resumo de CVD CVD é uma família de técnicas - CVD, PVD, PE-CVD, MO-CVD
Química em fase de vapor Reações na superfície do substrato O plasma pode "melhorar" as condições de reação Usado principalmente na indústria de semicondutores

12 VAPOR PHASE SYNTESIS OF TUNGTEN NANOWIRES
CONCLUSÀO DO ARTIGO VAPOR PHASE SYNTESIS OF TUNGTEN NANOWIRES Demonstrou com sucesso a fase de vapor técnica em que a condensação do óxido de espécies acima das suas temperaturas de decomposição leva ao crescimento de nanofios metálicos. O aumento da temperatura para além da temperatura de decomposição reduziu o diametro dos nanofios. Esta técnica pode ser estendida para a sintese dos nanofios de metal.

13 Referencias Microelectronics Processing Course - J. Salzman - Jan Microelectronics Processing Chemical Vapor Deposition Microelectronics Processing Course - J. Salzman – Fall Microelectronics Processing . Ion Implantation American Vacuum Society (AVS)

14 “A mente que se abre a uma nova ideia jamais volta ao seu tamanho original.” - Albert Einstein