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NANOMATERIAIS ALUNO: GELSON GOMES ALVES 20901844.

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1 NANOMATERIAIS ALUNO: GELSON GOMES ALVES

2 O que é CVD? Tipos de CVD –MO-CVD, PE-CVD, etc CVD processos / aplicações

3 Chemical vapor deposition (CVD) é um processo químico utilizado para a produção de materiais sólidos de alta pureza e de alto desempenho. O processo é frequentemente utilizado na indústria de semicondutores para produzir filmes finos. Num processo típico de CVD, a pastilha (substrato) é exposta a um ou mais precursores de voláteis, que reagem e / ou decompõem-se na superfície do substrato para produzir o depósito pretendido.

4 Chemical Vapor Deposition é a formação de uma película não volátil sólida sobre um substrato por meio da reação de produtos químicos na fase de vapor (reagentes) que contêm os componentes necessários. Os gases reagentes são introduzidos numa câmara de reação e são decompostas e reage a uma superfície aquecida de modo a formar a película fina.

5 Processos de microfabricação amplamente utilizados CVD para depositar materiais em várias formas, incluindo: policristalino, monocristalino, amorfa, e epitaxial. Estes materiais incluem: silício, fibra de carbono, nanofibras de carbono, filamentos, nanotubos de carbono, SiO2, silício, germânio, tungsténio, carboneto de silício, nitreto de silício, oxinitreto de silício, nitreto de titânio, e vários high-k dieléctricos. O processo de CVD também é usado para produzir diamantes sintéticos.

6 Na técnica de deposição física de vapor, o material é aquecido para produzir um vapor, que é então introduzido através dos poros do molde e arrefecida até solidificar. A deposição de vapor é normalmente capaz de preparar os nanofios de menor diâmetro ( 20 nm). Filamento quente de deposição de vapor químico. Utiliza o metano e o gás hidrogênio como fonte e filamentos de tungstênio. Crescimento como diamante nanocristalino de carbono amorfo e nanotubos de carbono. Pirometro Cyclop 100 é utilizado para medir tanto o filamento e a temperatura da amostra. Fase de aquecimento opcional programável permite controlar temperaturas de substrato até 800 C com termopar.

7 Horizontal APCVD Reactor Chemical Vapor Deposition Apparatus

8 Chemical Vapor Deposition Apparatus

9 Fonte: t/fkphys/epitaxy/mocv d.html

10 Minimiza os impactos dos processos em alta temperatura anteriormente utilizados. DESVANTAGENS VANTAGEM A REAÇÀO DE CVD É MUITO COMPLEXA E ENVOLVEUMA SÉRIE DE REAÇÒES.

11 CVD é uma família de técnicas - CVD, PVD, PE-CVD, MO-CVD Química em fase de vapor Reações na superfície do substrato O plasma pode "melhorar" as condições de reação Usado principalmente na indústria de semicondutores

12 Demonstrou com sucesso a fase de vapor técnica em que a condensação do óxido de espécies acima das suas temperaturas de decomposição leva ao crescimento de nanofios metálicos. O aumento da temperatura para além da temperatura de decomposição reduziu o diametro dos nanofios. Esta técnica pode ser estendida para a sintese dos nanofios de metal. CONCLUSÀO DO ARTIGO VAPOR PHASE SYNTESIS OF TUNGTEN NANOWIRES

13 Microelectronics Processing Course - J. Salzman - Jan Microelectronics Processing Chemical Vapor Deposition Microelectronics Processing Course - J. Salzman – Fall Microelectronics Processing. Ion Implantation American Vacuum Society (AVS)

14 A mente que se abre a uma nova ideia jamais volta ao seu tamanho original. - Albert Einstein


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